フォトマスク洗浄装置
MC150、ARTS
凍結洗浄機能を搭載
6025対応枚葉式フォトマスク洗浄装置
次世代EUV フォトマスクからレガシー製品まで対応した枚葉式洗浄装置です。当社が実用化した凍結洗浄機能を搭載し、微小異物の除去性能とパターンダメージフリーを両立。パターンの微細化が進むフォトマスクの歩留まり向上に貢献致します。
特長
- ・凍結洗浄機能
超純水が凍る過程で膨張する特性を利用した洗浄技術で、選択的に異物を除去するためパターンダメージフリーを実現しました。
- ・各種フォトマスクに対応
各フォトマスク用に最適化された洗浄技術を用いる事で、次世代EUVやNILを含めた各フォトマスクに対応。マスクブランクス洗浄も対応致します。
- ・様々なプロセスモジュールを選択可能
凍結洗浄機能に加え、端面洗浄機能等の各種処理モジュールをオプションで搭載可能。お客様の多様なご要望に対応致します。
SMIF対応ロードポートSMIF POD ( Single, Multi )に対応
凍結洗浄工程当社独自の洗浄処理チャンバー