低温アッシング装置
ICE series

薄ウェーハに対応した低温アッシング装置

HDIS(High-dose implant strip)に対応したφ200 / 300mmウェーハ用のアッシング装置です。ソース/バイアスの放電システムにより高速アッシングを実現しました。また冷却機構を備えた静電チャックによりウェーハ温度を低温に保つことが可能で、ポッピング対策や保護材付き極薄ウェーハのアッシング、メタルの酸化を抑えたアッシングやライトアッシングにも対応可能です。薄ウェーハのアッシングプロセスにおける問題を解決し生産性に貢献します。

エッチング・洗浄・チップ搭載。
お悩み別に製品をご紹介!

特長

高速/低温アッシング

アッシングレート1.5μm / min以上で、ウェーハ温度100℃以下を実現。レジスト残渣対策とポッピング対策を両立しました。

高濃度HDI対応

1015 [atm / cm2] のHDIウェーハを残渣なくアッシング可能です。

薄ウェーハ対応

冷却機構による低温処理により、保護材付薄ウェーハの処理が可能です。

ウェーハ処理中の様子
チャンバー全体がプラズマ放電により発光
上部プラズマ電極
独自のプラズマ電極構造を採用

お問い合わせ

この製品を統括する事業部門