薄ウェーハに対応した低温アッシング装置

HDIS（High-dose implant strip）に対応したφ200 / 300mmウェーハ用のアッシング装置です。ソース／バイアスの放電システムにより高速アッシングを実現しました。また冷却機構を備えた静電チャックによりウェーハ温度を低温に保つことが可能で、ポッピング対策や保護材付き極薄ウェーハのアッシング、メタルの酸化を抑えたアッシングやライトアッシングにも対応可能です。薄ウェーハのアッシングプロセスにおける問題を解決し生産性に貢献します。