半導体用スパッタリング装置
SWN-5000、BM-1400W

パワーデバイスなどの裏面電極形成や配線・電極等の多層膜形成に最適

エッチング・洗浄・チップ搭載。
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特長

  • 薄ウェーハ対応
  • マルチチャンバータイプ
  • ウェーハ温度コントロール
  • 多彩なオプション(加熱、エッチング他)
  • SiCウェーハ対応
  • 高生産性

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