マルチプロセスボンダ
TFC-6500
Advanced Package(ADV-PKG)向けマルチプロセス対応
ADV-PKGプロセスに適合した高精度マルチプロセスボンダです。
サーバや生成AIに用いられるGPUの進化を支える基幹技術としても重要性が高まるADV-PKG分野では、多くの情報を高速に受け渡すための入出力点数が増し、入出力端子の狭ピッチ化が進んでいます。さらに異種チップを1パッケージ化するチップレット技術への期待が増しています。当社は、ADV-PKG分野に力を入れた開発を進めており、大手IDM、Foundry、OSATより多数導入頂いております。
TFC-6500では、2.5D、2.XD、3Dパッケージおよび、Ultra High Density Fan Out-WaferLevel Package(UHD FO-WLP)など、多様化するパッケージング工法に適合し、マルチプロセスに対応しています。
プロセス開発から量産適合まで、「自由度の高いマルチプロセスボンダ」としてお客様の開発から生産まで貢献します。
エッチング・洗浄・チップ搭載。
お悩み別に製品をご紹介!
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特長
高精度、高クリーン度
Face Down精度1.0μm / Face Up精度3.0μmを達成。
高クリーン度(Clean Class100(業界初))を実現し、高精度かつ高品質な生産に貢献します。
マルチプロセス対応
Face Down / Face Upの両実装プロセスに対応可能。
UHD FO-WLP、2.5D、2.XD、3D実装、TC(Thermal Compression)プロセス等、多様化するパッケージング工法に適合します。
検査機能充実
実装後の検査機能も充実。生産歩留り改善に貢献します。
装置説明
主な用途 | 2.5D、2.XD、3Dパッケージ製品、UHD FO-WLP製品、Si-Photonics製品他 |
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精度 | Face Down 1.0μm (3σn-1) *Local認識/R.T条件 Face Up 3.0μm (3σn-1) *Local認識/R.T条件*オプション適用時 |
Dry UPH | 2,100以上 |
チップサイズ | Max.□30mm |
基板サイズ | φ200 / 300mmウェーハ Max.330×320mm基板 |
その他 | テープフィーダ/IRインスペクション/各種実装プロセス対応 |
関連情報
お問い合わせ
この製品を統括する事業部門
- メカトロニクスシステム事業部