マルチプロセスボンダ
TFC-6500

Advanced Package(ADV-PKG)向けマルチプロセス対応

ADV-PKGプロセスに適合した高精度マルチプロセスボンダです。
サーバや生成AIに用いられるGPUの進化を支える基幹技術としても重要性が高まるADV-PKG分野では、多くの情報を高速に受け渡すための入出力点数が増し、入出力端子の狭ピッチ化が進んでいます。さらに異種チップを1パッケージ化するチップレット技術への期待が増しています。当社は、ADV-PKG分野に力を入れた開発を進めており、大手IDM、Foundry、OSATより多数導入頂いております。
TFC-6500では、2.5D、2.XD、3Dパッケージおよび、Ultra High Density Fan Out-WaferLevel Package(UHD FO-WLP)など、多様化するパッケージング工法に適合し、マルチプロセスに対応しています。
プロセス開発から量産適合まで、「自由度の高いマルチプロセスボンダ」としてお客様の開発から生産まで貢献します。

エッチング・洗浄・チップ搭載。
お悩み別に製品をご紹介!
2.5D PKG向けボンダシェア NO.1

特長

高精度、高クリーン度

Face Down精度1.0μm / Face Up精度3.0μmを達成。
高クリーン度(Clean Class100(業界初))を実現し、高精度かつ高品質な生産に貢献します。

マルチプロセス対応

Face Down / Face Upの両実装プロセスに対応可能。
UHD FO-WLP、2.5D、2.XD、3D実装、TC(Thermal Compression)プロセス等、多様化するパッケージング工法に適合します。

検査機能充実

実装後の検査機能も充実。生産歩留り改善に貢献します。

クリーン対応
気流解析データに基づいたへパフィルタの最適配置により高クリーン度を実現
IRインスペクション(赤外線検査)
ボンディングしたチップを検査し、フィードバックすることでより高精度な生産対応可能

装置説明

主な用途 2.5D、2.XD、3Dパッケージ製品、UHD FO-WLP製品、Si-Photonics製品他
精度 Face Down 1.0μm (3σn-1) *Local認識/R.T条件
Face Up 3.0μm (3σn-1) *Local認識/R.T条件*オプション適用時
Dry UPH 2,100以上
チップサイズ Max.□30mm
基板サイズ φ200 / 300mmウェーハ
Max.330×320mm基板
その他 テープフィーダ/IRインスペクション/各種実装プロセス対応

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