フォトマスクエッチング装置
ARES series

EUVマスク対応フォトマスクエッチング装置

ARESシリーズは、次世代EUVからレガシー製品まで対応したフォトマスクエッチング装置です。当社独自のプラズマ源を備えたプロセスモジュールを用途に応じて組み合せることで、先端開発評価から量産まで対応しています。
NA0.55の次世代EUV向けの新型ARESでは、新しいチャンバー構造の採用と材質の最適化により、さらに広いプロセスウィンドウを実現。今後も多様化するフォトマスク材質やプロセスに対応し、お客様のご要望に柔軟にお応えします。

エッチング・洗浄・チップ搭載。
お悩み別に製品をご紹介!

特長

大排気量、超低圧プロセス対応

チャンバー構造の最適化により業界最大級の排気速度を達成。
さらに当社独自のプラズマ源と組み合わせ、高い面内均一性を実現しました。

低パーティクル対応

チャンバー部材やコーティング等の材質の最適化により、パーティクルフリーへ貢献します。

エンドポイントモニタ開発

1%以下の低開口率マスクでも終点検知可能です。

フォトマスク処理中の様子
シース無し
フォトマスク処理中の様子
シース有り(異方性エッチング中)

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