沿革

1939年
創立

東芝鶴見工場の一部の建物や機械設備を借用して操業を開始。設立当時の社名は「芝浦京町製作所」でしたが、同年12月に東芝の前身である「芝浦製作所」の社名を継承。創立当初は軍需品を中心に取り扱っていました。

1942年
大船工場が操業開始

神奈川県大船にある工作機械工場を買収し、大船工場(現・横浜事業所)を操業。無線電源、電動巻上機、電動伐採機、直流変圧器などを取り扱っていました。

操業当時の大船工場
1945年
民需産業へと転換

第二次世界大戦の終戦後、それまでの軍需中心から民需産業へと転換することが会社を存続・維持していくための緊急課題となりました。例えば、モータを基本技術として、産業分野では水中モータ、直流電動機を、民生分野では洗濯機用モータ、エアコン用ファンモータを開発するなどし、新たな事業を開拓していきました。

産業用直流電動機
1969年 東京証券取引所市場第二部に株式を上場
1972年 東京証券取引所市場第一部に株式を指定替上場
東京真空機材(現・芝浦エレテック)を設立
1981年 東精エンジニアリング(現・芝浦プレシジョン)を設立
1986年
洗浄装置事業を拡大

液晶パネル洗浄装置を開発。パソコンの液晶ディスプレイ化に伴って洗浄装置事業を拡大していきました。そして、液晶分野で培った洗浄技術を半導体分野へと展開し、ウェーハ洗浄装置の開発に向けて取り組みを開始しました。

液晶パネル洗浄装置
1991年
徳田製作所と合併

ケミカルドライエッチング装置、コンパクトディスク(CD)に成膜するスパッタリング装置を手掛けていた株式会社徳田製作所と合併。装置事業のシナジー効果によって、さらなる事業拡大を果たしました。

1993年 芝浦テクニカル・システムズ(現・芝浦自販機)を設立
1994年 芝浦ビルサービス(現・芝浦エンジニアリング)を設立
1996年
海外事業展開の本格化

米国に半導体製造装置の販売・サービス拠点として、現地法人SHIBAURA TECHNOLOGY INTERNATIONALCORPORATIONを設立。これ以降、台湾、韓国、中国など、海外のお客様への販売・サービス体制の強化を進めました。

当時の米国事務所
1998年
芝浦メカトロニクス誕生

ダイボンダやTAB実装装置などを手掛けていた東芝メカトロニクスと合併して、「芝浦メカトロニクス」が誕生。この合併により、半導体製造装置の前工程と後工程、FPD製造装置の前工程と後工程を1社で手掛ける製造装置メーカとして生まれかわりました。

発足式の様子
1999年 台湾に台湾芝浦先進科技(股)を設立
2000年 韓国にSCK CO., LTD.(現・韓国芝浦メカトロニクス)を設立
2001年 中国に芝浦機電(上海)有限公司を設立
2004年 芝浦ハイテックを設立
2007年
先端分野の工場棟を新設

液晶パネル製造装置の需要増加と液晶パネル大型化に対応するため、横浜事業所に第10世代基板対応の工場棟を新設しました。

横浜事業所の工場棟
2020年
半導体分野が事業の主軸に

枚葉式Siウェーハ洗浄装置や枚葉式リン酸エッチング装置など、グローバルニッチトップ製品の売上が拡大。SPE分野の売上高がFPD分野の売上高を上回りました。

枚葉窒化膜エッチング工程シェアNO.1
枚葉式リン酸エッチング装置
2022年 東京証券取引所 プライム市場に移行