研究開発用スパッタリング装置
CFS-4EP-LL
研究開発用スパッタ装置における業界トップランナー
研究開発から多品種生産、少量生産まで様々な成膜用途にご使用いただけます。
用途
- 半導体,電子部品,LED,LD,各種センサー,各種ウェーハ,MEMS他
代表的な成膜材料
- 誘電体膜ほか
AlN, SiN, SiO2, ZrO, TiO2 - 透明導電膜
ITO, ZnO - 金属膜ほか
Au, Ag, Cu, Si, Ti, Sn, Cr, Al, Ni, DLC
特長
- 豊富な納入実績
大学、研究機関、各企業に多数納入し、最先端の研究分野で活躍しています
- 全自動運転
レシピ設定を行うことにより、全自動運転が可能
- 多彩なオプション
自動搬送機、ターゲット-基板間距離自動可変、同時スパッタ、バイアススパッタなどを用意
CFS-4EP-LL仕様
| 処理方式 | ロードロック式 |
|---|---|
| スパッタ方式 | サイド |
| テーブル | 公転テーブル |
| スパッタ源 | 最大4個（常磁場・強磁場選択可） |
| データ | データロガー |
| 同時スパッタ | 対応可 |
| バイアススパッタ | 対応可 |
| テーブル温調 | Max 600℃加熱／水冷 |
| ターゲット-基板間距離可変 | 対応可 |
| 自動供給機 | 対応可 |
関連情報
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この製品を統括する事業部門
- メカトロニクスシステム事業部