枚葉式フォトマスク洗浄装置Single Wafer Photomask Wet Cleaning Equipment

枚葉式
フォトマスク
洗浄装置

枚葉式フォトマスク洗浄装置

半導体のパターン形成に使用するフォトマスクの製造工程で、フォトマスク用ガラスに付着するゴミや汚れを薬液や純水を使用して洗浄する装置です。

お問い合わせ

特長

  • 高性能
    高温薬液洗浄による高効率洗浄
    自社製薬液メガソニックにより高清浄な洗浄を実現
    メタルフリー構造による耐薬品性向上
  • 低COO
    枚葉式スピンにより純水・薬液の消費量を削減
    小フットプリント
  • 拡張性
    スピンユニット、光洗浄ユニット、IPAベーパー乾燥ユニットのインテグレート
    各種通信システム対応

製品に関するお問い合わせ

お問い合わせフォームへ

PAGETOP