フォトマスクエッチング装置Advanced Reticle Etching System

フォトマスク
エッチング装置

フォトマスクエッチング装置

次世代先端プロセス開発のカギとなる微細なパターンを形成する、フォトマスク製造用エッチング装置です。

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特長

  • NIL・EUVマスク・光マスク、それぞれに対応したプロセス技術を提供
  • 最大4基のプロセスチャンバーを搭載し、フレキシブルな製造プロセスに対応。
  • 最先端光マスクのCDU性能に対し、独自のプラズマ源によって性能を達成。
  • 10nmの要求微細欠陥を減少させるテクニカルオペレーションを提案。

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