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単層膜形成用スパッタリング装置
DVD-ROM、DVD±Rなどの光ディスク用スパッタリング装置です。さらに、DVD+R DL、Blu-rayに対応した新コンセプトのスパッタリング装置を開発しています。
膜厚の高均一性:±2.0%(絶対値)
(半透明層向けスパッタ源 K-タイプ)
ショット回数:100万回以上
1台でSi、Ag、Agx、Au、Al膜の成膜が可能
ターゲットの変換だけで5つの膜形成に対応
高操作性、高メンテナンス性
CD(厚さ1.2mm)とDVD(厚さ0.6mm)へのスパッタリングが改造なしで可能
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